公司簡(jiǎn)介

     LinkGlobal21于2016年從DAOUinCUBEInc.的半導(dǎo)體/IT部門獨(dú)立后成為法人，專注于EDA解決方案和光學(xué)仿真解決方案業(yè)務(wù)。光學(xué)解決方案的開發(fā)從1999年開始并在全球市場(chǎng)上展示領(lǐng)先技術(shù)。主要產(chǎn)品為LCD、OLED等顯示屏仿真解決方案。目前擴(kuò)展到圖像傳感器、摩爾紋檢測(cè)等各個(gè)行業(yè)。迄今全球客戶數(shù)量超過50家公司。LinkGlobal21為三星、LG、SKHynix、DongBu等韓國(guó)半導(dǎo)體公司和無晶圓廠公司提供定制解決方案和服務(wù)。多年來積累的豐富經(jīng)驗(yàn)和熟練的專業(yè)知識(shí)及時(shí)為客戶提供最好的產(chǎn)品。

光學(xué)仿真產(chǎn)品介紹

LinkGlobal21顯示屏光學(xué)領(lǐng)域仿真軟件有：

– Expert OLED-OLED的光學(xué)和電學(xué)特性模擬，快速、高精度、大內(nèi)存；

– Expert LCD-LCD光學(xué)和電學(xué)特性模擬，液晶運(yùn)動(dòng)、透射率、顏色、視角等；

– Expert CIS-CIS像素的光學(xué)特性模擬，模擬正面、背面照明燈；

– Expert Moire-模擬面板上的莫爾現(xiàn)象；

– Expert RT-光線跟蹤模擬軟件，用于設(shè)計(jì)各種照明和顯示設(shè)備；

– Expert RC-提取電阻和電容；

– Expert IP-自動(dòng)圖像處理器，用于提取GDS信息并自動(dòng)處理，加速設(shè)計(jì)；

– Expert Verticsl Viewer-像素設(shè)計(jì)查看器，通過切割位置確定結(jié)構(gòu)形狀，減少掩膜設(shè)計(jì)時(shí)間。

ExpertOLED-融入真實(shí)制造工藝的OLED多維模擬器

?ExpertOLED是一款功能強(qiáng)大的1D/2D/3D光學(xué)模擬軟件，主要用于解決OLED結(jié)構(gòu)及其光學(xué)特性的仿真問題?，具有高精度求解及低網(wǎng)格精度依賴性等特征。其主要技術(shù)特征如下：

– 所有功能均基于OLED設(shè)計(jì)環(huán)境進(jìn)行優(yōu)化，支持所有光學(xué)薄膜. (如CF, POL, 相位延遲器等 )；

– 3D 結(jié)構(gòu)生成器貼合OLED制造工藝 (掩膜 /蒸發(fā) )；

– 擁有豐富的有機(jī)材料數(shù)據(jù)庫；

– 具備面向 OLED 設(shè)計(jì)的圖形用戶界面（GUI）；

– 具備高精度求解器，支持斜入射光（環(huán)境光）模擬（如視角 60 度），可提供精確的三維光學(xué)解決方案；

– 求解速度快，正常像素模擬 1 天內(nèi)可完成，對(duì)設(shè)計(jì)尺寸無限制要求，90um*90um 像素大小的設(shè)計(jì)在桌面工作站即可運(yùn)行。

EOLED應(yīng)用案例-通過多變量厚度分析設(shè)計(jì)最優(yōu)器件

在 OLED 設(shè)計(jì)中，材料層的厚度是影響光效率的重要因素。因此，對(duì)厚度與光效率之間關(guān)系的影響進(jìn)行模擬，一直是 OLED 設(shè)計(jì)過程中的重要環(huán)節(jié)。以往，預(yù)測(cè)過程需要進(jìn)行繁瑣的計(jì)算和重復(fù)勞動(dòng)，耗費(fèi)大量時(shí)間。ExpertOLED 將重復(fù)繁瑣的過程簡(jiǎn)化為一次模擬，展示各層厚度的變化情況。

 

EOLED應(yīng)用案例-漏光預(yù)測(cè)與分析解決方案

在白光 OLED（WOLED）中，像素間的漏光是一個(gè)嚴(yán)重問題。ExpertOLED 可展示內(nèi)部光傳播路徑，并計(jì)算漏光功率。利用這些信息，用戶能夠找到優(yōu)化設(shè)計(jì)方案，解決這一問題。

 

EOLED應(yīng)用案例-電致發(fā)光

根據(jù)向 OLED 器件施加的電流或電壓，估算發(fā)射功率、電流分布、電子和空穴濃度以及能帶彎曲。

 

EOLED工作流程

1. 材料擬合：為縮短運(yùn)行時(shí)間并提高精度，引擎中采用了德魯?shù)?/span>-洛倫茲模型（Drude-Lorentz Model）。用戶可快速獲得準(zhǔn)確結(jié)果。

 

2. 幾何結(jié)構(gòu)：靈活的結(jié)構(gòu)生成功能，可直觀繪制各種圖案，如透鏡、光柵或擴(kuò)散膜?；趯?shí)際制造工藝，通過用戶友好的界面輕松生成結(jié)構(gòu)，模擬真實(shí)的工藝過程。

 

3. 網(wǎng)格：自適應(yīng)網(wǎng)格生成器，在物理參數(shù)變化大的特定區(qū)域采用自適應(yīng)網(wǎng)格，可減少運(yùn)行時(shí)間和內(nèi)存占用。

 

4. 光學(xué)求解器：實(shí)現(xiàn)白光 OLED 模擬，用戶可設(shè)計(jì)具有串聯(lián)結(jié)構(gòu)和彩色濾光片的 WOLED。借助這些功能，用戶可輕松對(duì) WOLED 進(jìn)行顏色分析。在面板模擬方面，OLED 模擬需要同時(shí)考慮微觀和宏觀光學(xué)。為補(bǔ)充 FDTD 在宏觀光學(xué)模擬上的不足，添加了光線追蹤功能。將光線追蹤與 FDTD 相結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了面板樣式的模擬，并能估算每層吸收或限制的光功率。

5. 查看器：查看器提供多種輸出和分析工具，支持多種探測(cè)器形狀，如點(diǎn)、線、杯、圓和方形。用戶可在設(shè)計(jì)中的任意位置測(cè)量光功率。

 

圖 1波形和振幅

 

圖 2 動(dòng)畫

 

圖 3 CIE圖

EOLED混合光學(xué)解決方案

宏觀光學(xué)(光線追蹤)：適用于像素到面板的模擬，但無法分析微納圖案。

微光學(xué)（波動(dòng)光學(xué)或電磁光學(xué)）：適合用于材料到像素的模擬，以分析微納圖案，但在模擬厚膜或大型結(jié)構(gòu)時(shí)效率較低。

混合光學(xué)=光學(xué) (時(shí)域有限差分法FDTD) + 電學(xué)，即EL模式，高端光學(xué)產(chǎn)品需要 “混合光學(xué)”技術(shù)。

 

圖 4 混合光學(xué)應(yīng)用

 

圖 5 OLED漏光模擬

ExpertLCD-融入真實(shí)制造工藝的LCD高速模擬器

ExpertLCD是一款基于物理環(huán)境下提供完整的解決方案的仿真軟件。它不僅可以評(píng)估液晶的動(dòng)力學(xué)和光學(xué)特性，還可以評(píng)估液晶顯示器的電氣特性。實(shí)際的液晶模式如TN，IPS，FFS，MVA，ASV，PVA，OCB都可以由ExpertLCD進(jìn)行分析和建模?？蓽p少 LCD 設(shè)計(jì)中的錯(cuò)誤和設(shè)計(jì)周期，可同時(shí)分析液晶的行為、透射率、顏色、視角和電學(xué)特性。

功能特征：

– 便于設(shè)計(jì)和創(chuàng)建完整的 3D 結(jié)構(gòu)；

– 支持靜態(tài) / 動(dòng)態(tài)液晶分析；

– 可提取寄生電容；

– 支持局部、偏振、顏色、相位延遲、偏振等多種分析。用戶還能靈活設(shè)置模擬區(qū)域，查看透射率、電位、CIE 和 VT 曲線等多種數(shù)據(jù)。

ELCD工作流程

1. 掩膜編輯器：支持 GDSII 格式，能進(jìn)行多區(qū)域模擬，GDS 文件可直接轉(zhuǎn)換使用，自動(dòng)設(shè)置液晶邊界條件。物質(zhì)的編輯和選擇便捷，單文件集成系統(tǒng)便于物質(zhì)信息管理。仿真設(shè)置更便捷，配置設(shè)置可存儲(chǔ)并隨時(shí)復(fù)用。

 

2. 幾何結(jié)構(gòu)：呈現(xiàn)真實(shí)制造工藝的結(jié)構(gòu)，預(yù)覽功能可展示物質(zhì)的形狀和厚度外觀。

 

3. 網(wǎng)格劃分：強(qiáng)大的自動(dòng)網(wǎng)格功能，即使在復(fù)雜結(jié)構(gòu)中也能自動(dòng)處理網(wǎng)格任務(wù)，無需額外準(zhǔn)備工作。

 

4. 光學(xué)分析：光學(xué)分析模擬展示多種結(jié)果，應(yīng)用示例涵蓋 IPS、TN、PMVA 等多種模式的模擬和測(cè)量。預(yù)處理項(xiàng)目包括布局設(shè)計(jì)、編輯修改設(shè)計(jì)等；模擬項(xiàng)目包括液晶行為計(jì)算、電位計(jì)算等。

5. 后處理查看器：通過耦合電容分析真實(shí)液晶行為，動(dòng)態(tài)電容模擬可預(yù)測(cè)實(shí)際面板中液晶的準(zhǔn)確行為。穩(wěn)定錨定模型確保在任何液晶模式下都能穩(wěn)定模擬?；旌夏Ｊ剑?/span>TFT+LC）可考慮 TFT 特性計(jì)算液晶行為，并行處理能根據(jù) CPU 數(shù)量增加線性減少運(yùn)行時(shí)間。

 

圖 6 液晶計(jì)算

 

圖 7 光學(xué)紋理

 

圖 8 色彩性能

ExpertEMOIRE-莫爾現(xiàn)象模擬軟件

EMOIRE基于人眼的摩爾紋分析用于通過線角、像素形狀和大小檢查摩爾紋圖案。使用光線追蹤+FFT（快速傅里葉變換）分析莫爾現(xiàn)象。

其主要功能特征有：

– 能夠生成人眼可見的摩爾紋圖案；

– 可考慮任何圖案的實(shí)際結(jié)構(gòu)；

– 用戶能通過分析摩爾紋圖案的周期，選擇合適的線圖案，并且能夠查看不同條件下摩爾紋圖案的可見度

 

圖 9 莫爾現(xiàn)象模擬流程

 

圖 10 莫爾圖案結(jié)果

 

圖 11 光線追蹤及莫爾圖案結(jié)果

ExpertCIS-CIS像素的光學(xué)模擬軟件

ExpertCIS為CMOS圖像傳感器（CIS）的超高分辨率提供3D光學(xué)仿真環(huán)境。可模擬FSI(FrontsideLighting)、BSI(BackSideIllumination)、ISOCELL等先進(jìn)設(shè)計(jì)。功能特征有：

– 全球首創(chuàng)集成電磁（EM）+ 三維時(shí)域有限差分法（3DFDTD）+ 光線追蹤技術(shù)，實(shí)現(xiàn)微觀和宏觀的綜合光學(xué)仿真

– 簡(jiǎn)單易用的圖形用戶界面（GUI）和查看器（強(qiáng)大的后處理功能）

– 擁有便捷的 n.k 擬合程序（適用于顯示和半導(dǎo)體領(lǐng)域）

– 對(duì)斜入射角模擬具有高精度

– 能夠生成 3D 復(fù)雜結(jié)構(gòu)（精確模擬亞微米像素）

 

圖 12 CRA模擬

 

圖 13 亞微米像素模擬

 

圖 14 FWS光學(xué)分析

ExpertRC-電容電阻提取

功能特征：

– 高精度；

– 對(duì)網(wǎng)格依賴性低；

– 可靈活生成結(jié)構(gòu)；

– 支持直接加載棱柱；

– 可結(jié)合 LC 進(jìn)行電容提取；

– 支持并行處理

通常采用電荷法進(jìn)行電容電阻的提取計(jì)算，需要計(jì)算金屬中的電荷分布，且需要高精度網(wǎng)格模型支持，以確保高精度計(jì)算結(jié)果。

而ERC采用的是能量場(chǎng)法，基于電容矩陣進(jìn)行電容電阻的提取計(jì)算，該方法通過計(jì)算整個(gè)區(qū)域的電能來實(shí)現(xiàn)。

與傳統(tǒng)基于電荷的提取方法相比，該方法對(duì)網(wǎng)格尺寸依賴性小，因?yàn)殡妶?chǎng)在更廣泛的區(qū)域傳播，在實(shí)際案例中的電容提取精度更高。

 

圖 15 電容電阻提取精度對(duì)比

ExpertRT-光線追蹤模擬軟件

用于設(shè)計(jì)各種照明和顯示設(shè)備的光線追蹤模擬軟件。用戶可以在制造光學(xué)產(chǎn)品之前預(yù)測(cè)性能。它計(jì)算輻射數(shù)據(jù)（顏色、強(qiáng)度）和視角數(shù)據(jù)。

功能特征：

– 基于實(shí)際制造工藝進(jìn)行靈活的幾何設(shè)計(jì)；

– 支持 GDS 文件導(dǎo)入和導(dǎo)出；

– 擁有強(qiáng)大且快速的光線追蹤光學(xué)求解器（支持并行計(jì)算）。

 

圖 16 分析流程

 

圖 17 凹凸光學(xué)薄膜分析案例

ExpertIP-圖像處理器

自動(dòng)圖像處理器，用于提取GDS信息并實(shí)現(xiàn)自動(dòng)處理?？赏ㄟ^魚腥GDS信息自動(dòng)計(jì)算出開口率的面積。僅用數(shù)分鐘即可基于圖片像素提取布局信息。功能特征：

– 在特定區(qū)域提取 GDS 文件；加載程序并對(duì)比照片和 GDS 文件；具備圖像合并功能，能在幾分鐘內(nèi)僅依據(jù)圖片像素提取布局。

– 像素的關(guān)鍵尺寸（CD）可依據(jù)工藝或制造廠商要求進(jìn)行調(diào)整，在分析競(jìng)品像素時(shí)，設(shè)計(jì)師無需手動(dòng)繪制布局，直接利用該工具就能快速完成，既節(jié)省時(shí)間又能保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

 

圖 18 EIP圖像處理應(yīng)用示例

ExpertVerticalViewer-像素設(shè)計(jì)查看器

使用GDSII的真實(shí)結(jié)構(gòu)，橫截面視圖隨著時(shí)間的推移有效減少掩模設(shè)計(jì)。可以通過切割位置確認(rèn)結(jié)構(gòu)形狀。其功能特征有：

– 面向顯示屏工藝

– 生成復(fù)雜的低溫多晶硅（LTPS）結(jié)構(gòu)

– 自動(dòng)報(bào)告關(guān)鍵尺寸（CD）/ 寬度 / 深度等數(shù)值

– 支持圓形設(shè)計(jì)（貼合實(shí)際設(shè)計(jì)需求）

– 用戶能夠根據(jù)布局和工藝配方生成結(jié)構(gòu)，并獲取不同方向的剖視圖，同時(shí)還能提取 GDSII、DXF、BMP 等多種格式文件，這一功能有助于顯示設(shè)計(jì)師高效完成設(shè)計(jì)評(píng)審報(bào)告，大幅提升工作效率。

 

 

圖 19 像素設(shè)計(jì)查看